Odporność psychiczna lidera i zespołów. BrandMe CEO Round table
![](https://brandmeceo.pl/wp-content/uploads/2023/12/1703081649277.jpg)
Rynek pracy nieustannie się zmienia – doświadczają tego zarówno liderzy biznesu, jak również pracownicy i całe zespoły. Zmieniają się potrzeby wszystkich stron. Sztuką okazuje się być chociażby dostosowanie benefitów do rzeczywistych potrzeb.
Pojawia się kluczowe pytanie, w jaki sposób liderzy powinni dbać o swoją odporność? Jak należy dbać o odporność zespołów? Jak w ogóle skutecznie motywować siebie oraz współpracowników?
Jeden z wątków dyskusji dotyczył zasadności sabbaticali i wydłużonych przerw w pracy, których niejednokrotnie potrzebują szefowie i pracownicy. Do tego doszedł też problem wypalenia zawodowego. Wspólnie zastanawialiśmy się, czy warto chociażby wprowadzić powyższe zagadnienia do prawa pracy. Być może wystarczą dobre praktyki pracodawców?
Padło kilka istotnych wniosków:
Liderów często motywuje adrenalina, gdy mają do zrealizowania np. kolejny projekt.
Niezbędne są jednak networking i życie codzienne. Lider o wellbeing powinien dbać każdego dnia.
Kluczowe jest wyważenie czasu dedykowanego na pracę i życie poza nią.
Warto nie popełniać błędu, gdy praca staje się całym życiem lidera.
Pamiętajmy, że każdy ma swój własny sposób na budowanie odporności psychicznej.
1,5-godzinna dyskusja pokazała również, że istnieją spore różnice w obszarze wellbeing między poszczególnymi krajami. Udało się zderzyć punkt widzenia polski, szwedzki, niemiecki, węgierski czy też amerykański. Potrzeby mamy wspólne, ale na każdym z rynków nacisk kładzie się na coś zupełnie innego.
—–
W dyskusji BrandMe CEO Round table, którego partnerem było PZU, wzięli udział przedstawiciele małych, średnich i tych największych firm. Udało się zderzyć różne punkty widzenia i różne doświadczenia. Mamy nadzieję, że uda nam się Państwa zainspirować do wdrażania zmian w swoich firmach. Może z czymś Państwo się nie zgadzają. I słusznie. Warto bowiem dyskutować o najlepszych, najbardziej skutecznych rozwiązaniach.